第一章 绪论
1.1 引言
1.2 InAs/AlSb HEMTs器件特点
1.3 InAs/AlSb HEMTs射频器件研究状况
1.4 对InAs/AlSb HEMTs的研究存在的问题
1.5 本书主要内容安排
第二章 InAs/AlSb异质结外延材料特性及工艺
2.1 异质结能带结构
2.2 InAs/AlSb异质结外延材料特性仿真
2.3 InAs/AlSb异质结外延材料生长
第三章 InAs/AlSb HEMTs器件特性及工艺
3.1 器件结构及工作原理
3.2 InAs/AlSb HEMTs器件特性及机理
3.3 InAs/AlSb HEMTs器件性能仿真
3.4 InAs/AlSb HEMTs制备工艺研究
3.5 测试结果分析
第四章 InAs/AlSb MOS-HEMTs基础研究
4.1 high-k/InAlAs MOS电容隔离栅
4.2 high-k/InAlAs MOS电容工艺及特性
4.3 InAs/AlSb MOS-HEMTs器件物理仿真
第五章 InAs/AlSb HEMTs器件模型
5.1 小信号等效电路模型理论
5.2 InAs/AlSb HEMTs器件小信号等效电路模型
5.3 InAs/AlSb HEMTs噪声模型
5.4 InAs/AlSb HEMTs器件碰撞离化效应模型表征
第六章 InAs/AlSb HEMTs低噪声放大器设计
6.1 LNA关键指标
6.2 匹配理论
6.3 常见的LNA电路结构
6.4 Ku波段InAs/AlSb HEMTs LNA设计
第七章 总结和展望
7.1 总结
7.2 展望
参考文献
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